La alimentación continua desde el primer paso hasta la película limpiada de recorrido corto permite una producción continua. Las trampas de destilados, residuos y condensables cuentan con bombas de descarga para eliminar los puntos de detención y los cuellos de botella del procesamiento. Las TCU para cada proceso térmico cuentan con un control de temperatura preciso con líneas de alimentación encamisadas para eliminar el enfriamiento y el bloqueo.

El sistema de vacío cuenta con bombas de difusión y de desbaste de alta velocidad de bombeo que permiten niveles de vacío mTorr con control de vacío dual para un control óptimo de la calidad del proceso. El control total sobre todo el proceso con nuestra interfaz de pantalla táctil intuitiva permite un esquema de control confiable al mismo tiempo que habilita el historial de procesamiento y la retroalimentación de datos en tiempo real.

Este módulo independiente se puede combinar con otros módulos ENTEXS (extracción, evaporación, remediación y/o cristalización) para la capacidad de expansión de extracción plug and play.